快速退火爐的應用領域和使用條件介紹
更新時間：2019-04-24 點擊次數(shù)：5250
快速退火爐具有升溫速度快、密封好、溫度范圍寬、實驗方便等特點。
真空快速退火爐的應用領域：
- 離子注入/接觸退火；
- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用；
- SiAu, SiAl, SiMo合金化；
- 低介電材料；
- 晶體化，致密化；
- 太陽能電池片鍵合
快速退火爐適用于下列工作條件：
（1）環(huán)境溫度在-10～75℃之間。
（2）周圍環(huán)境的相對濕度不超過85%。
（3）爐子周圍沒有導電塵埃，爆炸性氣體及嚴重破壞金屬和絕緣材料的腐蝕性氣體。
（4）沒有明顯的傾斜﹑振動和顛簸。
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